- 中国は、元ASMLのエンジニアを使って、深センで秘密裏にEUVリソグラフィー機のプロトタイプを製作した。
- この機械は稼働しているが、まだチップの製造はできず、実際の生産は2030年近くになる見込みだ。
- 中国は秘密雇用、ASMLの部品の回収、そしてファーウェイの全国ネットワークを利用してこのプロジェクトを推進した。
中国は半導体産業をめぐる争いを新たな局面へと突入させた。深圳の密閉された施設内で、科学者たちは米国が長年阻止しようとしてきたEUVリソグラフィー装置の試作機を製作した。
この装置は2025年初頭に完成し、工場のほぼ一フロアを占め、現在は試験段階にある。先端半導体製造の鍵となる極端紫外線(EUV)を既に生成しているが、まだ実際に動作するチップは生産されていない。
詳細を知る人物によると、このプロジェクト全体は、オランダ企業の最も制限の厳しいシステムをリバースエンジニアリングするために採用された元ASMLのエンジニアによって推進されたという。
EUV装置から発せられるビームは、髪の毛よりもはるかに細い回路を刻みます。これらの装置を開発する企業は、AI、スマートフォン、ドローン、ミサイルなど、あらゆるコンピューティング能力の最高峰を掌握しています。
ASMLのCEO、クリストフ・フーケ氏は、中国がEUVシステムを構築するには「何年も」かかると述べたが、プロジェクト関係者は、試作機は中国が多くの予想よりも半導体自立にはるかに近づいていることを示していると述べている。また、光学系と高精度部品に対する厳しい制限が依然として中国の足かせになっているとも述べた。
しかし、彼らは、中古市場で流通しているASMLの古い部品が、この国初の国産マシンの開発に役立ったことを確認した。ある人物は、政府は2028年までに実用的なチップを投入したいと考えているが、現実的な時期は2030年だと述べている。
中国は全国で採用活動と秘密主義を推進している
このプロトタイプは、半導体の自給自足を最優先事項とした習近平国家主席が命じた6カ年国家計画の成果です。中国が半導体の目標を公に語っていたにもかかわらず、深センのプロジェクトは秘密にされていました。
国営メディアは、丁雪祥氏を半導体戦略全般の責任者と名指しした。関係者は、この取り組み全体を「中国のマンハッタン計画」に例えた。
ファーウェイは中心的な役割を担い、政府機関、民間企業、そして数千人のエンジニアを結びつけた。ある情報筋は「中国は最終的に、完全に中国製の機械で高度なチップを製造できるようになることを目指している」と述べ、「中国は米国をサプライチェーンから完全に排除したいと考えている」と付け加えた。
ASMLは依然、世界で唯一のEUVサプライヤーであり、その装置は約2億5000万ドルの費用がかかり、TSMC、インテル、サムスンなどのチップメーカーがNvidiaやAMDなどの企業が設計したチップの製造に使用している。
ASMLは、2001年の試作品から2019年の商用チップに至るまでに20年と数十億ユーロの費用がかかったと述べた。同社は「企業が当社の技術を模倣したいと考えるのは当然だが、そうするのは容易なことではない」と述べた。
米国の輸出規制は2018年以降、中国へのEUV販売を禁止しており、バイデンdent 下で2022年に拡大された。トランプ政権は現在、規制の執行を強化し、抜け穴を塞ぐと述べている。
オランダ政府は、機密性の高い技術の国外流出を阻止するため、研究機関の審査を行っている。こうした制限により、中国の半導体産業の発展は鈍化し、ファーウェイのより高度な生産も制限された。
中国はプロトタイプを製造し、国内の半導体事業を拡大
厳重に警備された深圳の研究所では、新入社員はIDカードに偽名を使っていた。あるエンジニアは、採用書類に偽名が記載されていたことに驚いたと語った。彼によると、dentを使って働いていたASMLの元同僚にも見覚えがあったという。作業員たちは、施設外の誰にも自分が何を作っているのか知られてはならないと告げられていた。
採用された人材の多くは、最近退職した中国生まれの元ASMLエンジニアだった。オランダに勤務する現ASML社員2人は、2020年からファーウェイのリクルーターからアプローチがあったと語った。
国境を越えた秘密保持規則の執行は弱く、ASMLはかつて、現在北京で活動している元エンジニアが秘密を盗んだとして告発され、8億4500万ドルの判決を勝ち取ったことがある。
オランダの情報機関は、中国が西側諸国の研究者を採用するなど、ハイテクの知識を集めるために「大規模なスパイ活動」を行っていると警告した。
ASMLのベテランたちがこの画期的な進歩を可能にしたのは、彼らがいなければEUVシステムのリバースエンジニアリングは「ほぼ不可能」だったからだと言われている。
中国は2019年に大規模な採用活動を開始し、300万~500万元の契約金と住宅補助金を提供した。その中の一人が、ASMLの元光源技術責任者であるリン・ナン氏だった。彼の新しいチームは18ヶ月で8件のEUV特許を申請した。
中国は二重国籍を禁止しているにもかかわらず、海外で帰化した国民の中には中国のパスポートを与えられた者もいる。
ASMLのシステムは180トンの重量があり、中国は当初のサイズに匹敵する試作機を作ることができなかったため、はるかに大きな試作機を製作した。試作機は機能するものの、ASMLのものと比べると粗雑だ。欠けている部品には、通常はカールツァイスAGから供給されている高精度光学系などがある。
長春のCIOMPを含む中国の研究所は、現地での代替に取り組み、2025年初頭にEUVビームを統合した。CIOMPは博士課程の研究者に「上限なし」の給与と最大400万元の助成金を提供した。
中国はオークションや中古市場からASMLの古い機械と部品を撤去した。試作品にはニコンとキヤノン関連の部品も含まれていた。仲介業者は購入を隠蔽していた。
約100人の新卒者が部品のリバースエンジニアリングを行い、各デスクには作業の様子を録画するカメラが設置されていた。作業員が部品の修復に成功すると、ボーナスが支払われた。
半導体チームに配属されたファーウェイの従業員は、しばしば現場で寝泊まりし、平日は帰宅できなかった。携帯電話の使用も制限されていた。
ある人物は、他のチームが何を開発しているか分からないように、各チームが孤立した状態を保っていたと語ったと伝えられている。中国が半導体サプライチェーンの完全管理に向けて前進する中、任正非CEOは上級幹部に対し、プロジェクトの進捗状況を説明した。
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